特許
J-GLOBAL ID：200903046177696205
位相シフトマスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
寒川 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-136692
公開番号（公開出願番号）：特開平5-333523
出願日： 1992年05月28日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：
【要約】【目的】 自己整合型位相シフトマスクの製造方法に関し、寸法精度の高い位相シフタを有する位相シフトマスクを製造する方法を提供することを目的とする。【構成】 透光性基板1の一部領域に位相シフト膜2と不透光性膜3とを積層形成した後、不透光性膜3上に選択的にレジスト膜5を形成し、このレジスト膜5をアッシングして不透光性膜3の周辺領域上から除去し、レジスト膜5の除去された領域の不透光性膜3をエッチング除去して、不透光性膜3の形成された領域を除く透光領域4の周辺に位相シフタ6を形成するように構成する。
請求項（抜粋）：
透光性基板(1)の一部領域に位相シフト膜(2)と不透光性膜(3)とを順次積層形成し、該不透光性膜(3)上に選択的にレジスト膜(5)を形成し、該レジスト膜(5)をアッシングして前記不透光性膜(3)の周辺領域上から除去し、前記レジスト膜(5)の除去された領域の前記不透光性膜(3)をエッチング除去して、前記不透光性膜(3)の形成された領域を除く透光領域(4)の周辺に位相シフタ(6)を形成することを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
