特許
J-GLOBAL ID：200903046181957510
有機物除去方法及び有機物除去装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-159192
公開番号（公開出願番号）：特開平7-135150
出願日： 1993年06月29日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：
【要約】【目的】試料にオゾンを接触させ、試料上の有機物を除去するとき、オゾンを流すガスフローギャップの厚みを増大させても大きな処理速度が得られる有機物除去方法を提供すること。【構成】オゾナイザー16で発生させたオゾンを、半導体基板12に接触させて基板上の有機物を除去するときに、処理室11内を真空ポンプ10により減圧にし、紫外光源14から紫外線を透明な仕切板13を介して半導体基板12に照射しながら行う有機物除去方法。仕切板13と半導体基板12の間のガスフローギャップの厚みを大きくしても実用的な処理速度が得られる。
請求項（抜粋）：
試料にオゾンを接触させ、試料上の有機物を除去する有機物除去方法において、上記接触は、減圧雰囲気で行うことを特徴とする有機物除去方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, H01L 21/304 341
