特許
J-GLOBAL ID：200903046182596499
無電解黒色めっき浴組成と皮膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩澤 寿夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-202993
公開番号（公開出願番号）：特開平9-049085
出願日： 1995年08月09日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：
【要約】【課題】 黒色化のための後処理をすることなく、黒色めっき皮膜を形成できる無電解黒色めっき浴、このめっき浴を用いた黒色めっき皮膜の形成方法、および黒色めっき皮膜を有する物品の提供。【解決手段】 ニッケル塩、還元剤を含有する無電解黒色めっき浴であって、さらに硫黄含有化合物および亜鉛イオンを含有する無電解黒色めっき浴。さらに、上記無電解黒色めっき浴は窒素含有化合物および微粒子状物を含有できる。上記めっき浴に被めっき物を所定時間浸漬する無電解黒色めっき膜の形成方法。この方法により形成された無電解黒色めっき膜を有する物品。
請求項（抜粋）：
ニッケル塩および還元剤を含む無電解めっき浴であって、さらに硫黄含有化合物および亜鉛イオンを含有することを特徴とする無電解黒色めっき浴。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 18/50
, C23C 18/52 A
