特許
J-GLOBAL ID：200903046189815501
欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-256601
公開番号（公開出願番号）：特開平7-113760
出願日： 1993年10月14日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：
【要約】【目的】 被検物の本来のパターンの密集度や形状等の条件に依らずに、欠陥のみを検出する。【構成】 光ビーム106を被検査物100に照射し、被検査物100からの光を受光レンズ108、視野絞り109及びレンズ110を介してフーリエ変換する。このフーリエ変換面上にシャッター111を配置し、シャッター111上にそれぞれV字形の開口116,117を有する遮光板112,114をX方向に移動自在に配置する。開口116,117が重なった領域である開口120A,120Bの内シャッター111で選択された開口を通過した光束を、レンズ126により逆フーリエ変換して撮像素子127の撮像面に欠陥像を結像する。
請求項（抜粋）：
被検物に検査用の光を照射する光照射手段と、前記被検物からの光を集光する集光光学系とを有し、該集光された光を用いて前記被検物の欠陥を検査する装置において、前記被検物からの光をフーリエ変換する第1変換光学系と、該第1変換光学系によるフーリエ変換面上の異なる2つの位置に、それぞれ前記被検物からの光を通過させる開口を設定する開口設定手段と、前記2つの開口を通過した光をそれぞれ逆フーリエ変換する第2変換光学系と、を備え、該第2変換光学系により結像された前記被検物の2つの共役像に基づいて、前記被検物の欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件)：
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