ペロブスカイト構造を有する金属酸化物膜の製造方法、及び薄膜コンデンサの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-159527
公開番号（公開出願番号）：特開平9-012305
出願日： 1995年06月26日
公開日（公表日）： 1997年01月14日
要約：

【要約】【目的】低温焼成が可能で、かつ、所定形状にパターンニングすることが容易な、ペロブスカイト構造を有する厚みの薄い金属酸化物膜のゾル-ゲル法による製造方法、及びこの膜を誘電体とした薄膜コンデンサの製造方法を提供する。【構成】金属酸化物膜の製造方法は、熱処理によりペロブスカイト構造の金属酸化物となる前駆体と、紫外線吸収剤とを含むゾルを作製する第1工程、基板上にゾルの膜を形成後、乾燥させて金属酸化物の前駆体被膜を形成する第2工程、基板の前駆体被膜上にマスクパターンをセットし、紫外線を照射してこの前駆体被膜を硬化させる第3工程、基板上の前駆体被膜をエッチングして、紫外線非照射部分を除去する第4工程、基板上の前駆体被膜を熱処理して、ペロブスカイト構造を有する金属酸化物膜を得る第5工程からなる。

請求項（抜粋）：

次の工程よりなるペロブスカイト構造を有する金属酸化物膜の製造方法。(a)熱処理によりペロブスカイト構造の金属酸化物となる前駆体と、紫外線吸収剤とを含むゾルを作製する第1工程、(b)基板上にゾルの膜を形成後、乾燥させて金属酸化物の前駆体被膜を形成する第2工程、(c)基板の前駆体被膜上にマスクパターンをセットし、紫外線を照射して該前駆体被膜を硬化させる第3工程、(d)基板上の前駆体被膜をエッチングして、紫外線非照射部分を除去する第4工程、(e)基板上の前駆体被膜を熱処理して、ペロブスカイト構造を有する金属酸化物膜を得る第5工程。

IPC (4件)：

C01B 13/32 , C23C 18/12 , H01G 4/06 , H01G 4/10

FI (4件)：

C01B 13/32 , C23C 18/12 , H01G 4/06 , H01G 4/10

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