特許

J-GLOBAL ID：200903046208992410

塗布装置

発明者： 藤本 昭浩 ,  坂本 和生 ,  石坂 信和 ,  葉瀬川 泉
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-007919
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204416
出願日： 1998年01月19日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】 バルブが作動するまでの遅れ時間を短くでき、吐出ポンプ及びバルブを最適のタイミングで作動させることのできる塗布装置を提供する。【解決手段】 開閉バルブAVやサックバックバルブSVの開閉速度をコントロールするスピードコントローラーとして、小型で応答速度が速い電空レギュレータER1,ER2を用いることにより流路全体を短くし、バルブが作動するまでの遅れ時間を短縮した。また、吐出ポンプ120から吐出されるレジスト液の圧力を圧力センサ123で検出し、吐出ポンプ120、開閉バルブAV、及びサックバックバルブSVの各装置の作動を制御装置180を介して制御することにより、吐出ポンプ120、開閉バルブAV、及びサックバックバルブSVを最適のタイミングで作動させ、レジストノズル60先端のレジスト液の滴りによるパーティクルの生成が防止できる。

請求項（抜粋）：

被処理体に塗布液を吐出するノズルと、塗布液を収容する容器と、前記ノズルと前記容器との間に配設され、容器内の塗布液をノズルに送る吐出ポンプと、前記吐出ポンプと前記ノズルとの間に配設され、開閉速度を電気的に調節する速度調節手段を備えたバルブと、を具備することを特徴とする塗布装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502

FI (3件)：

H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502