基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-245942
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059891
出願日： 2001年08月14日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】オゾン処理の予定を見越してオゾン処理に係るブランチリソースをできるだけ連続的に使用することにより、無駄な電力を抑制しつつも待機時間をなくしてスループットを向上させることができ、プロセスの再現性を良好にすることができる。【解決手段】リソースを使用して基板に対してオゾン処理を行なう場合で、複数のリソースでオゾン処理が並行あるいは連続して実施される場合には、ステップS14で既に使用されているブランチリソースをステップS24で継続的に使用する。これにより小刻みな使用開始・停止を繰り返す必要がなくなるので、無駄な電力の発生を抑制することができつつ待機時間をなくしてスループットを向上させることができる。

請求項（抜粋）：

基板に対して複数個のリソースを備えた基板処理装置により、各リソースを使用しながら処理する際に各々のリソースを使用するタイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、実際に基板に対する処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、オゾン処理に付随する動作をブランチリソースとして定義し、オゾン処理のリソースを使用して基板に対してオゾン処理を行なう場合には、オゾン処理のリソースを使用するとともにブランチリソースを使用し、さらに複数のリソースでオゾン処理が並行あるいは連続して実施される場合には、既に使用されているブランチリソースを継続的に使用することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 648 , H01L 21/304 647 , B08B 3/08 , G05B 19/418 , H01L 21/02

FI (5件)：

H01L 21/304 648 H , H01L 21/304 647 Z , B08B 3/08 Z , G05B 19/418 Z , H01L 21/02 Z

Fターム (12件)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB01 , 3B201BB02 , 3B201BB89 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB98 , 3B201CB15 , 3C100AA05 , 3C100BB14 , 3C100EE06

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