特許

J-GLOBAL ID：200903046217808540

多層スペクトル純度フィルタ、このようなスペクトル純度フィルタを備えたリソグラフィ装置、デバイス製造方法及びそれによって製造されたデバイス

発明者： ファディム イェフゲンイェフィヒ バニネ ,  ヨハネス フーベルトゥス ジョセフィーナ モールス ,  レオニト エイツィコビッチ スジマエノク ,  ニコライ ニコラエビッチ サラスチェンコ
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-067070
公開番号（公開出願番号）：特開2006-279036
出願日： 2006年03月13日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：

【課題】多層スペクトル純度フィルタ、このようなスペクトル純度フィルタを備えたリソグラフィ装置、デバイス製造方法及びそれによって製造されたデバイスを提供すること。【解決手段】多層スペクトル純度フィルタにより、極紫外(EUV)放射ビームのスペクトル純度が改善され、且つ、放射源から放出されるデブリスが収集される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

交番層の多層構造を備えたリソグラフィ・スペクトル純度フィルタであって、望ましくない放射を反射するか或いは吸収することによって放射ビームのスペクトル純度を改善するようになされ、且つ、放射源から放出されるデブリスを収集するようになされたリソグラフィ・スペクトル純度フィルタ。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521

Fターム (5件)：

5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GB04 ,  5F046GB07 ,  5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 狭周波数帯分光フィルタおよびその用途
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-560142   出願人：カールツァイスエスエムテーアーゲー
• 多層膜反射鏡、反射型マスク、露光装置及び反射型マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-257348   出願人：株式会社ニコン
• 特開平2-019850
  
• X線マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-277987   出願人：凸版印刷株式会社

審査官引用 (1件)

• 狭周波数帯分光フィルタおよびその用途
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-560142   出願人：カールツァイスエスエムテーアーゲー