特許
J-GLOBAL ID:200903046217872109

ペンタフルオロプロペンの接触製造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 谷 義一 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-532904
公開番号(公開出願番号):特表2001-509803
出願日: 1998年01月07日
公開日(公表日): 2001年07月24日
要約:
【要約】式:CFX=CYCF3、ここで、XはHおよびFから選択され、YはXがHであるときFであり、およびYはXがFであるときHである、ペンタフルオロプロペンの製造方法が開示される。本発明の方法は、式:CF2XCHYCF3のヘキサフルオロプロパンを、約200°Cから500°Cの温度で、随意に不活性ガスの存在下で、触媒と接触させる工程を具える。適当な触媒は、(1)(a)マグネシウム、亜鉛、およびマグネシウムと亜鉛との混合物の酸化物、フッ化物、およびオキシフッ化物から選択された少なくとも1種の化合物と、随意に(b)アルミニウムの酸化物、フッ化物、およびオキシフッ化物から選択された少なくとも1種の化合物との触媒であり、但し、該触媒において、アルミニウムと、マグネシウムおよび亜鉛の合計との原子比が、約1:4またはそれ未満(例えば1:9)である触媒、(2)フッ化ランタン、(3)フッ化物化された酸化ランタン、(4)活性炭、並びに(5)三次元マトリックスの炭質材料を含む。
請求項(抜粋):
式CFX=CYCF3、ここで、XはHおよびFから選択され、且つYはXがHであるときFであり、およびYはXがFであるときHである、ペンタフルオロプロペンの製造方法であって、 式CF2XCHYCF3のヘキサフルオロプロパンを、約200°Cから500°Cの温度で、随意に不活性ガスの存在下で、触媒と接触させる工程を具え、 前記触媒は、(1)(a)マグネシウム、亜鉛、およびマグネシウムと亜鉛との混台物の酸化物、フッ化物、およびオキシフッ化物から選択された少なくとも1種の化合物と、随意に(b)アルミニウムの酸化物、フッ化物、およびオキシフッ化物から選択された少なくとも1種の化合物との触媒であり、但し、前記触媒において、アルミニウムと、マグネシウムおよび亜鉛の合計との原子比が、約1:4またはそれ未満である触媒、(2)フッ化ランタン、(3)フッ化物化された酸化ランタン、(4)活性炭、並びに(5)三次元マトリックス炭質材料から成る群から選択されることを特徴とする製造方法。
IPC (4件):
C07C 17/25 ,  B01J 27/06 ,  C07C 21/18 ,  C07B 61/00 300
FI (4件):
C07C 17/25 ,  B01J 27/06 Z ,  C07C 21/18 ,  C07B 61/00 300
引用特許:
審査官引用 (4件)
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