特許
J-GLOBAL ID:200903046240077910

光加工機及びそれを用いたオリフィスプレートの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-363690
公開番号(公開出願番号):特開平11-179576
出願日: 1997年12月16日
公開日(公表日): 1999年07月06日
要約:
【要約】【課題】 レーザ光を用いてマスク面上のマスクパターンを加工物に高精度に加工することができる光加工機及びそれを用いたオリフィスプレートの製造方法を得ること。【解決手段】 光源から放射された光でマスク面上に設けたパターンを照明し、該パターンを光学系によって加工物に投影し、アブレーション加工するようにした光加工機において、アブレーション加工の経過に際して、該マスクと光学系、そして加工物の光軸方向の相対的位置を変化させて、該加工物面上に投影される該マスクのパターン像の結像特性を制御していること。
請求項(抜粋):
光源から放射された光でマスク面上に設けたパターンを照明し、該パターンを光学系によって加工物に投影し、アブレーション加工するようにした光加工機において、アブレーション加工の経過に際して、該マスクと光学系、そして加工物の光軸方向の相対的位置を変化させて、該加工物面上に投影される該マスクのパターン像の結像特性を制御していることを特徴とする光加工機。
IPC (3件):
B23K 26/00 330 ,  B23K 26/00 ,  B41J 2/135
FI (3件):
B23K 26/00 330 ,  B23K 26/00 G ,  B41J 3/04 103 N

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