特許
J-GLOBAL ID：200903046241818506
表面形状測定装置及び方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-119920
公開番号（公開出願番号）：特開2004-325232
出願日： 2003年04月24日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：
【課題】装置周囲の状況によって突発的に生じた外乱にも対応可能な表面形状の測定技術を提供することを課題とする。【解決手段】対象物表面の反射光及び参照面の反射光の干渉画像を撮像するための撮像手段と、対象物表面の反射光及び参照面の反射光の光路差を変更するための位相シフト手段と、光路差を変更して撮像した複数枚の干渉画像のうちの各干渉画像が対象物表面形状測定に悪影響を与える可能性があるか否かを検定する検定手段と、光路差を変更して撮像した複数枚の干渉画像のうち、悪影響を与える可能性があると検定された干渉画像を除いた干渉画像を基に、各点における干渉の位相を抽出し、対応する対象物表面の各点と参照面の各点の光路差を求めることにより対象物表面の形状を演算する形状演算手段とを有する表面形状測定装置が提供される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
対象物表面の反射光及び参照面の反射光の干渉画像を撮像するための撮像手段と、
前記対象物表面の反射光及び前記参照面の反射光の光路差を変更するための位相シフト手段と、
光路差を変更して撮像した複数枚の干渉画像のうちの各干渉画像が対象物表面形状測定に悪影響を与える可能性があるか否かを検定する検定手段と、
前記光路差を変更して撮像した複数枚の干渉画像のうち、前記悪影響を与える可能性があると検定された干渉画像を除いた干渉画像を基に、各点における干渉の位相を抽出し、対応する対象物表面の各点と参照面の各点の光路差を求めることにより対象物表面の形状を演算する形状演算手段と
を有する表面形状測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (22件)：
2F064AA09
, 2F064CC01
, 2F064EE01
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG70
, 2F064HH03
, 2F064JJ01
, 2F064KK01
, 2F065AA04
, 2F065AA53
, 2F065FF51
, 2F065LL57
, 2F065MM03
, 2F065PP12
, 2F065QQ17
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ31
, 2F065QQ41
, 2F065RR05
, 2F065RR06
