特許

J-GLOBAL ID：200903046247149029

フロッピーディスクおよびその製造方法

発明者： 西川 正一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 米澤 明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-263254
公開番号（公開出願番号）：特開2001-084585
出願日： 1999年09月17日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】 記録密度が高く、変形量が小さく特性の優れた磁気記録媒体を提供する。【解決手段】 可撓性支持体基板両面上に、少なくとも磁性層、保護層、潤滑剤層を有するフロッピーディスクにおいて、可撓性支持体上に真空成膜法により形成される層の成膜速度が0.3nm/秒以上、9.5nm/秒未満であり、可撓性支持体直上に、20°Cの環境下で熱伝導度が0.25cal/cm・s・deg未満である材質の金属薄膜層を少なくとも1層形成するフロッピーディスクの製造方法。

請求項（抜粋）：

可撓性支持体基板両面上に、少なくとも磁性層、保護層、潤滑剤層を有するフロッピーディスクにおいて、可撓性支持体上に真空成膜法により形成される層の成膜速度が0.3nm/秒以上、9.5nm/秒未満であることを特徴とするフロッピーディスクの製造方法。

IPC (2件)：

G11B 5/85 ,  G11B 5/64

FI (2件)：

G11B 5/85 Z ,  G11B 5/64

Fターム (14件)：

5D006AA01 ,  5D006AA02 ,  5D006AA06 ,  5D006CA01 ,  5D006CA05 ,  5D006DA02 ,  5D006EA03 ,  5D006FA09 ,  5D112AA03 ,  5D112AA05 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BD03 ,  5D112FA01