特許

J-GLOBAL ID：200903046252042895

ポリ塩化ビフェニルの分解反応進行度の測定方法およびポリ塩化ビフェニル分解装置

発明者： 都 鳥 顕 司 ,  早 瀬 修 二 ,  西 澤 克 志 ,  青 木 延 忠 ,  島 田 秀 樹 ,  田 嶋 直 樹 ,  鵜 木 和 夫
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-172439
公開番号（公開出願番号）：特開平10-019781
出願日： 1996年07月02日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】 従来のPCB分解装置における分解反応進行度の測定の困難性を解消し、分解反応進行中に反応溶液を一定量取り出し、PCB分解進行度を連続的かつリアルタイムに定量できるPCBの分解方法、ならびにそれを利用した装置の提供。【解決手段】 ポリ塩化ビフェニルの分解過程において、ポリ塩化ビフェニルを含有する液にポリ塩化ビフェニルを励起させる400nm以上450nm未満の励起光、またはポリ塩化ビフェニルの分解生成物を励起させる300nm以上400nm未満の励起光を照射して450nm以上600nm以下の発光強度を測定し、得られる測定値に基づいて、または、その両者の比に基づいて当該液中のポリ塩化ビフェニルの存在量を定量すること、を特徴とするポリ塩化ビフェニルの分解反応進行度の測定方法、ならびにその測定方法によりポリ塩化ビフェニルを定量する装置を具備するポリ塩化ビフェニルの分解装置。

請求項（抜粋）：

ポリ塩化ビフェニルの分解過程において、ポリ塩化ビフェニルを含有する液にポリ塩化ビフェニルを励起させる400nm以上450nm未満の励起光を照射して450nm以上600nm以下の発光強度を測定し、得られる測定値に基づいて当該液中のポリ塩化ビフェニルの存在量を定量することを特徴とする、ポリ塩化ビフェニルの分解反応進行度の測定方法。

IPC (2件)：

G01N 21/64 ZAB ,  C07C 25/18

FI (2件)：

G01N 21/64 ZAB Z ,  C07C 25/18