特許

J-GLOBAL ID：200903046275480741

投影光学装置

発明者： 谷口 哲夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-146367
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315225
出願日： 1992年05月13日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：

【要約】【目的】 投影光学系に球面収差が発生しても、良好な焦点合わせを行う。【構成】 ウエハステージWS上の基準パターン18を用いて投影光学系PLの焦点位置を求める焦点位置検出系15,19,20,21と、レチクルR上のパターンの線幅を入力するバーコードリーダー22と、投影光学系PLの球面収差の変化量を求める球面収差演算器13と、レチクルRのパターン及び基準パターンの線幅並びに球面収差の変化量に基づきその焦点位置検出系により求められた投影光学系PLの焦点位置の補正を行う焦点位置補正器14とを有する。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンを第1照明光で照明する照明光学系と、前記マスクのパターンの前記第1照明光のもとでの像をステージ上の基板上に投影する投影光学系とを有する投影光学装置において、前記マスク上又は前記ステージ上に設けられた基準パターンと、該基準パターンを用いて前記投影光学系の焦点位置を求める焦点位置検出手段と、前記マスク上のパターンの線幅を入力する線幅入力手段と、前記投影光学系の球面収差又は非点収差の変化量を求める収差量演算手段と、前記線幅入力手段からの前記マスク上のパターンの線幅の情報、前記基準パターンの線幅の情報及び前記収差量演算手段からの球面収差又は非点収差の変化量の情報に基づき前記焦点位置検出手段により求められた前記投影光学系の焦点位置の補正を行う焦点位置補正手段とを備えた事を特徴とする投影光学装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 7/28 ,  G03F 7/207 ,  G05D 3/12

FI (4件)：

H01L 21/30 311 N ,  G02B 7/11 M ,  H01L 21/30 301 M ,  H01L 21/30 311 L