特許

J-GLOBAL ID：200903046305930194

有害ガスの浄化方法

発明者： 大塚 健二 ,  荒川 秩 ,  名和 洋二
出願人/特許権者： 日本パイオニクス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-067421
公開番号（公開出願番号）：特開平9-234337
出願日： 1996年02月29日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【課題】 半導体製造プロセスなどから排出される排ガス中に含まれるふっ素、塩素、三ふっ化塩素、ふっ化水素、塩化水素、六ふっ化タングステン、四ふっ化珪素、三ふっ化ほう素などの有害なハロゲン系ガスを効率よく浄化する方法を開発する。【解決手段】 排ガスを酸化銅(II)及び酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物にギ酸ナトリウムを添着せしめてなる浄化剤と接触させ、該ガスから有害成分を除去する。

請求項（抜粋）：

有害成分としてハロゲン系ガスを含有するガスを酸化銅(II)及び酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物にギ酸ナトリウムを添着せしめてなる浄化剤と接触させ、該ガスから有害成分を除去することを特徴とする有害ガスの浄化方法。

IPC (2件)：

B01D 53/68 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (3件)：

B01D 53/34 134 A ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 C