特許
J-GLOBAL ID：200903046310689810
ペリクル
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
角田 衛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-126845
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305719
出願日： 2000年04月27日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：
【要約】【課題】F2レーザを露光光源に用いる場合でも、光透過率が高く、耐光性に優れるペリクルを提供する。【解決手段】OH基の含有量が20ppm以下である合成石英ガラスの板をペリクル膜として用いてなる。ペリクル膜の厚さが1〜500μmであること、ペリクル膜の厚さのばらつきが0.5μm以下であること、ペリクル膜を構成する合成石英ガラスの、面内のOH基含有量のばらつきが10ppm以下であることが好ましい。
請求項（抜粋）：
OH基含有量が20ppm以下である合成石英ガラスの板をペリクル膜として用いてなることを特徴とするペリクル。
Fターム (1件)：
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