特許
J-GLOBAL ID：200903046314062928
ガスバリアーフィルム及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 清路
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-062427
公開番号（公開出願番号）：特開平10-235779
出願日： 1997年02月27日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：
【要約】【課題】 ガスバリアー性に優れたガスバリアーフィルム及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明のガスバリアーフィルムは、高分子からなる基材フィルムの表面に、Si-H結合をもつアルコキシシラン及びアルコキシシロキサンから選択される原料ガスを用いたプラズマ化学気相堆積法により、実質的に有機成分を含まないシリコン酸化膜からなるガスバリアー層が形成されている。上記原料ガスを用いることにより、上記シリコン酸化膜を圧力0.01〜10Torrの下で容易に形成させることができる。原料ガスとしては、トリエトキシシランを使用することが特に好ましい。
請求項（抜粋）：
高分子からなる基材フィルムと、該基材フィルムの表面に設けられ、Si-H結合をもつアルコキシシラン及びアルコキシシロキサンから選択される原料ガスを用いたプラズマ化学気相堆積法により形成され、実質的に有機成分を含まないシリコン酸化膜からなるガスバリアー層と、を備え、上記基材フィルム及び上記ガスバリアー層からなる二層フィルムの酸素透過性が1(cc/m2 )/日以下であることを特徴とするガスバリアーフィルム。
IPC (4件)：
B32B 9/00
, B32B 7/02
, C08J 7/00 306
, C23C 16/42
B32B 9/00 A
, B32B 7/02
, C08J 7/00 306
, C23C 16/42
