特許

J-GLOBAL ID：200903046318005490

ペロブスカイト構造を有する複合金属酸化物エピタキシャル膜の製造方法

発明者： 水田 進 ,  熊谷 俊弥 ,  真部 高明 ,  山口 厳 ,  金 昇源 ,  近藤 和吉
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-263349
公開番号（公開出願番号）：特開平10-101489
出願日： 1996年10月03日
公開日（公表日）： 1998年04月21日
要約：

【要約】【課題】 ペロブスカイト構造を有する複合金属酸化物エピタキシャル膜を生産効率よく製造し得る方法を提供する。【解決手段】 単結晶基板上に形成された所定のペロブスカイト組成に対応する金属成分組成を有する有機基結合金属化合物の混合物からなる薄膜を、0〜10-2atmの酸素分圧の条件下で150〜400°Cで加熱焼成した後、500°C以上の温度で加熱焼成して複合金属酸化物の薄膜とすることを特徴とするペロブスカイト構造を有する複合金属酸化物エピタキシャル膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

単結晶基板上に形成された所定のペロブスカイト組成に対応する金属成分組成を有する有機基結合金属化合物の混合物からなる薄膜を、0〜10-2atmの酸素分圧の条件下で150〜400°Cで加熱焼成した後、500°C以上の温度で加熱焼成して複合金属酸化物の薄膜とすることを特徴とするペロブスカイト構造を有する複合金属酸化物エピタキシャル膜の製造方法。

IPC (4件)：

C30B 29/22 ,  C30B 1/02 ,  C30B 29/32 ,  H01B 3/00

FI (4件)：

C30B 29/22 Z ,  C30B 1/02 ,  C30B 29/32 C ,  H01B 3/00 F