特許
J-GLOBAL ID：200903046319386454
荷電粒子線転写方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-157345
公開番号（公開出願番号）：特開平8-022949
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：
【要約】【目的】 従来よりも高精度に転写できる荷電粒子線転写方法を提供する。【構成】 マスクの複数の小領域に設けられたパターンを試料の異なる被転写領域に順次転写する荷電粒子線転写方法において、実際の転写に先立って試料の少なくとも2つの被転写領域にパターンを転写したと仮定したときの各被転写領域のパターン像に生じる方位角方向の歪Δθの変化率(A1、A2の傾き)を検出し、この検出結果に基づいて方位角方向の歪Δθが減少するように試料に導かれるパターン像PT1と試料とを光軸の回りに相対回転させる。
請求項（抜粋）：
マスクの複数の小領域に設けられたパターンを試料の異なる被転写領域に順次転写する荷電粒子線転写方法において、実際の転写に先立って前記試料の少なくとも2つの被転写領域にパターンを転写したと仮定したときの各被転写領域のパターン像に生じる方位角方向の歪の変化率を検出し、前記歪の変化率の検出結果に基づいて、前記方位角方向の歪が減少するように前記試料に導かれるパターン像と前記試料とを光軸の回りに相対回転させて転写を行うことを特徴とする荷電粒子線転写方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 541 P
, H01L 21/30 541 S
, H01L 21/30 541 B
