特許
J-GLOBAL ID：200903046323653122
露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-173781
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343293
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】 特定の基準パターンを用いて、異なる複数の線幅のパターン又は異なる複数のピッチの格子状パターンに関する投影光学系の結像特性を求める。【構成】 ステージ基板17上の回折格子マークWM1の投影光学系PLによる像をレチクルR上に形成する。計測用マークRM1及び回折格子マークWM1の共役像の像を光学系19,20,22,23を介して撮像素子25上に結像する。撮像素子25への光をビームスプリッター24で分割して得た光で、リレーレンズ26、可変開口絞り27及びリレーレンズ28を介して撮像素子29上に計測用マークRM1及び回折格子マークWM1の共役像のぼけた像を結像する。
請求項（抜粋）：
露光光を発生する光源と、前記露光光を集光してマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを前記露光光のもとでステージ上の感光基板に転写する投影光学系と、前記ステージ上に設けられた基準回折格子マークと、前記露光光によって照明された前記マスク上のマーク及び前記露光光によって前記マスク及び前記投影光学系を介して照明された前記基準回折格子マークの像を撮像する第1撮像手段と、該第1撮像手段に向かう光を分割する光分割手段と、前記露光光によって照明された前記マスク上のマーク及び前記露光光によって前記マスク及び前記投影光学系を介して照明された前記基準回折格子マークの像を前記光分割手段を介して撮像する第2撮像手段と、前記光分割手段と前記第2撮像手段との間に設けられ、前記露光光によって照明された前記基準回折格子マークから発生する0次光を抽出する絞り手段と、前記第1撮像手段及び前記第2撮像手段からの撮像信号により前記マスク上のマーク及び前記基準回折格子マークの前記マスク上の共役像との位置関係を計測する計測手段とを有する事を特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02B 27/42
, G03F 7/20 521
