特許
J-GLOBAL ID：200903046342279290
集積回路用エッチング終点検出装置及び方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-312902
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201807
出願日： 1994年12月16日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：
【要約】【目的】 基板上の膜のエッチング終点をその場で検出する方法および装置を提供する。【構成】 装置は所定の波長を有する第1励起ビームをもたらす手段を含んでおり、第1ビームは実質的に1次高調波のみを含んでいる。送出手段が第1ビームを所定の入射角で膜と基板の間の界面に送り、第1ビームが界面で反射され、これによって第2ビームをもたらし、第2ビームは第1ビームの1次高調波成分と発生した2次高調波成分を含んでいる。検出手段は発生した2次高調波成分を検出し、これを表す第1の出力信号をもたらす。第1ビームの発生した2次高調波成分の基準を発生する手段は発生した2次高調波成分の基準を表す第2の出力信号をもたらす。第1および第2の出力信号に応答する正規化手段は、第1ビームの発生した2次高調波成分をリアルタイムで正規化し、正規化された発生した2次高調波成分における所定の変化の発生を表す第3の出力信号をもたらし、所定の変化は基板表面上の膜のエッチング終点に対応している。
請求項（抜粋）：
膜のエッチング中に基板上の膜のエッチング終点をリアルタイムに現場で検出するための装置において、a)所定の周波数を有し、かつその1次高調波のみを実質的に含んでいる第1励起ビームをもたらすための手段と、b)第1ビームを所定の入射角で基板の間の界面に送出するための手段であって、第1ビームが界面で反射され、これによって第2ビームをもたらし、第2ビームが第1ビームの1次高調波成分と第1ビームの反射の結果として発生した2次高調波成分を含んでいる前記手段と、c)第1ビームの発生した2次高調波成分を検出し、検出した2次高調波成分を表す第1出力信号をもたらす手段と、d)第1ビームの発生した2次高調波成分の基準を表す第2出力信号をもたらす手段と、e)前記検出手段によって検出された第1ビームの発生した2次高調波成分をリアルタイムで正規化する、第1および第2出力信号に応答する手段であって、第1ビームの正規化された発生した2次高調波成分における所定の変化の発生を表す第3出力信号をもたらし、所定の変化が基板上の膜のエッチング終点に対応している手段とからなる前記装置。
IPC (4件)：
H01L 21/306
, G01B 11/06
, G01N 21/00
, G01N 21/45
