フォトレジスト組成物およびその硬化方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-370424
公開番号（公開出願番号）：特開2003-167350
出願日： 2001年12月04日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：

【要約】【課題】VOC課題をできるだけ低減し、生産性も向上し、水稀釈が可能であって、その硬化物も耐熱性、耐水性、電気特性やアルカリ現像性に優れたフォトレジスト組成物およびその硬化方法を得ること。【解決手段】(A)酸性基含有樹脂、(B)エチレン性不飽和基含有シラン化合物と他のエチレン性不飽和化合物との共重合体からなるカルボキシル基含有共重合体、(C)反応性プレポリマーおよび/または反応性モノマー、(D)光重合開始剤を含む光硬化組成物に(E)乳化剤として可変性界面活性剤を含有させエマルジョン化されていることを特徴とするフォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)酸性基含有樹脂、(B)エチレン性不飽和基含有シラン化合物と他のエチレン性不飽和化合物との共重合からなるカルボキシル基含有共重合体、(C)反応性プレポリマーおよび/または反応性モノマー、(D)光重合開始剤を含む光硬化性組成物に、(E)乳化剤として可変性界面活性剤を含有させてエマルジョン化されていることを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/075 521 , G03F 7/004 504 , H05K 3/00

FI (3件)：

G03F 7/075 521 , G03F 7/004 504 , H05K 3/00 F

Fターム (15件)：

2H025AA04 , 2H025AA06 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC14 , 2H025BC42 , 2H025BJ03 , 2H025CA00 , 2H025CB34 , 2H025CB43 , 2H025CB54 , 2H025CC04 , 2H025FA17

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