特許
J-GLOBAL ID：200903046371788013
耐摩耗薄膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-006138
公開番号（公開出願番号）：特開平6-212004
出願日： 1993年01月18日
公開日（公表日）： 1994年08月02日
要約：
【要約】【目的】製造コストが安価であるとともに量産性に優れ、かつ強固な密着力を有して優れた耐摩耗性を確実に発揮する耐摩耗薄膜を樹脂基板上に形成する。【構成・作用】アクリル系光重合硬化塗料からなる未硬化下地層2を樹脂基板1上に形成し、この未硬化下地層2上にシリコン系熱重合硬化塗料からなる未硬化上層3を形成する。紫外線を照射して未硬化下地層2を重合させることにより、未硬化下地層2にラジカルを発生させ、このラジカルによって未硬化上層3を重合させる。上層3は下地層2と共有結合等で強固に結合する。
請求項（抜粋）：
耐摩耗光重合硬化組成物又は耐摩耗電子線重合硬化組成物からなる未硬化下地層を樹脂基板上に形成し、該未硬化下地層上に耐摩耗熱重合硬化組成物からなる未硬化上層を形成する未硬化薄膜形成工程と、光又は電子線を照射して前記未硬化下地層を重合させることにより該未硬化下地層にラジカルを発生させ、該ラジカルと前記未硬化上層とを反応させ、加熱処理して該未硬化上層を重合させる重合硬化工程とを有することを特徴とする耐摩耗薄膜形成方法。
IPC (4件)：
C08J 7/04
, B05D 7/24 301
, B05D 7/24
, C08J 7/00 302
