特許
J-GLOBAL ID:200903046375407189
薄膜太陽電池および薄膜太陽電池の作製方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
野河 信太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-132443
公開番号(公開出願番号):特開2002-329878
出願日: 2001年04月27日
公開日(公表日): 2002年11月15日
要約:
【要約】【課題】 結晶シリコン系薄膜太陽電池のpin接合の界面を改良することにより光電変換効率を向上する。【解決手段】 結晶質を含む非単結晶シリコン系薄膜をi層として用いたpin接合を含む薄膜太陽電池における基板側のpまたはn型導電層とi層との界面における酸素原子濃度を5×1020atoms/cm3以下に抑制する。
請求項(抜粋):
結晶質を含む非単結晶シリコン系薄膜をi層に用いた少なくとも1つのpin接合が基板上に積層された薄膜太陽電池からなり、前記pin接合における基板側のpまたはn型導電層とその上に積層されるi層との界面における酸素原子濃度が5×1020atoms/cm3以下である薄膜太陽電池。
IPC (2件):
FI (3件):
H01L 21/205
, H01L 31/04 L
, H01L 31/04 N
Fターム (22件):
5F045AA08
, 5F045AB04
, 5F045AC01
, 5F045AC19
, 5F045AD07
, 5F045AE19
, 5F045AF07
, 5F045BB16
, 5F045CA13
, 5F045DA52
, 5F045DA65
, 5F045DQ17
, 5F045EB08
, 5F051AA03
, 5F051AA04
, 5F051CB12
, 5F051CB24
, 5F051CB29
, 5F051DA04
, 5F051FA04
, 5F051GA02
, 5F051GA03
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