特許

J-GLOBAL ID：200903046375421297

試料断面観察方法及びその装置

発明者： 樋口 俊郎 ,  横田 秀夫
出願人/特許権者： 財団法人神奈川科学技術アカデミー
代理人 (1件)： 清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-051438
公開番号（公開出願番号）：特開平9-243561
出願日： 1996年03月08日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 試料を三次元形状(ブロック形状)のまま蛍光染色し、不透明な包埋剤を用いて包埋した後、試料を切削してその断面を観察することにより、試料のX,Y,Z軸方向に分解能の高い画像を容易に観察することができる試料断面観察方法及びその装置を提供する。【解決手段】 少なくとも蛍光観察に用いる波長に対しては光を通さない包埋剤2を用いて包埋される蛍光染色された試料1を用意し、蛍光物質が反応する光15を試料面に照射し、その試料面から励起した光16aを観察するようにしたものである。

請求項（抜粋）：

(a)少なくとも蛍光観察に用いる波長に対しては光を通さない包埋剤を用いて包埋される蛍光染色された試料又は自家蛍光を発する試料を用意し、(b)蛍光物質が反応する光を試料面に照射し、(c)前記試料面から励起した光を観察することを特徴とする試料断面観察方法。

IPC (3件)：

G01N 21/64 ,  G01N 1/28 ,  G01N 1/30

FI (3件)：

G01N 21/64 Z ,  G01N 1/30 ,  G01N 1/28 G