特許
J-GLOBAL ID：200903046376191074
欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-265553
公開番号（公開出願番号）：特開平6-094633
出願日： 1992年09月09日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 微細回路パターンと異物を高い分離検出率をもって検出でき、基板表面の欠陥を高精度に検査することのできる欠陥検査装置を提供する。【構成】 受光器2は回転駆動部20によって任意の角度に回転可能であり、受光面には独立して光電変換可能な複数の受光領域A1 ,A2 ,A3 が設けられている。集光された入射光束Iによって検査点Oから発せられた光束は、フーリエ変換レンズ41によりフーリエ変換され、2次元光電変換素子アレイ42でフーリエスペクトルが測定される。このフーリエスペクトル測定結果に基づいて受光器2が回転され、回折光の間隔が最も大きい方向に受光領域が配列される。フーリエ変換は、レンズ41以外の光学素子を用いても良い。
請求項（抜粋）：
表面に所定のパターンが形成された被検査物上に所定の光束を照射する光源と、前記光源からの光束を前記被検査物上の検査点に所定の開口角で集光させる集光手段と、該集光手段からの入射光束と前記被検査物とを相対移動させる移動手段と、前記入射光束によって前記検査点から発生する散乱光束を受光し、該受光光の強度に応じた信号を出力する受光手段とを有し、該受光手段からの信号に基づいて前記被検査物表面の欠陥の有無を検査する欠陥検査装置において、前記散乱光束の分布状態を測定する散乱分布測定手段を備え、前記受光手段は受光光を独立して光電変換可能な複数の受光領域を有し、前記散乱分布測定手段の測定結果に基づいて、前記複数の受光領域の配置を選定する選定手段を備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, H01L 21/66
