特許
J-GLOBAL ID：200903046379977559
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-346073
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196386
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】 次の露光領域への移動中に高さ位置を予め検出し、検出した高さ位置情報に基づき移動中または移動終了後直ちに焦点合わせを行うことのできる、スループットの向上した投影露光装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明の投影露光装置は、感光基板上に所定形状のパターン像を結像するとともに、前記感光基板から反射した光を光電検出して、露光領域内の予め定められた複数の計測点の各々における投影光学系の光軸方向の位置を検出する位置検出手段と、基板ステージの移動中、マスクのパターンを転写すべき次の露光領域内の複数の計測点の各々が前記パターン像と一致、もしくは近接したときに前記位置検出手段から出力される検出信号に基づいて、前記投影光学系の結像面と前記次の露光領域の露光面との前記光軸方向のずれ量を算出する演算手段と、該検出されたずれ量がほぼ零になるように前記基板ステージの移動を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置を提供する。
請求項（抜粋）：
マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板上の複数の露光領域の各々に転写するための露光手段と、前記感光基板を保持して前記投影光学系の光軸と垂直な面内で2次元移動するとともに、前記光軸に沿った方向に移動可能な基板ステージとを備え、前記露光領域毎に、前記投影光学系の結像面と前記露光領域の露光面とをほぼ一致させて前記マスクのパターンを転写する投影露光装置において、前記感光基板上に所定形状のパターン像を結像するとともに、前記感光基板から反射した光を光電検出して、前記露光領域内の予め定められた複数の計測点の各々における前記投影光学系の光軸方向の位置を検出する位置検出手段と、前記基板ステージの移動中、前記マスクのパターンを転写すべき次の露光領域内の複数の計測点の各々が前記パターン像と一致、もしくは近接したときに前記位置検出手段から出力される検出信号に基づいて、前記投影光学系の結像面と前記次の露光領域の露光面との前記光軸方向のずれ量を算出する演算手段と、該検出されたずれ量がほぼ零になるように前記基板ステージの移動を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03B 27/34
, G03F 7/207
