特許

J-GLOBAL ID：200903046388299539

アルカリ現像用レジスト

発明者： 後河内 透 ,  木原 尚子 ,  浅川 鋼児 ,  信田 直美 ,  中瀬 真 ,  沖野 剛史
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-213571
公開番号（公開出願番号）：特開平9-120162
出願日： 1996年08月13日
公開日（公表日）： 1997年05月06日
要約：

【要約】【課題】 短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好なレジストパターンを形成することができるアルカリ現像用レジストを提供する。【解決手段】 25°Cの水溶液中でのpKaが7以上11以下である酸性置換基が導入された脂環式化合物を含有するアルカリ現像用レジストである。前記脂環式化合物は、ビニル化合物との共重合体として配合されることが好ましく、かかる共重合体の波長193nmの光に対する吸光度は1μm当たり3以下であることが好ましい。

請求項（抜粋）：

25°Cの水溶液中でのpKaが7以上11以下の酸性置換基が導入された脂環式化合物を含有するアルカリ現像用レジスト。

IPC (6件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平2-181150
  
• 放射線感光材料およびそれを用いるパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-053772   出願人：富士通株式会社