特許

J-GLOBAL ID：200903046403931735

光触媒性酸化チタン膜の成膜方法

発明者： 平岡 純治 ,  道家 隆博 ,  原賀 久人
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社 ,  芝浦メカトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-209278
公開番号（公開出願番号）：特開2003-093896
出願日： 2002年07月18日
公開日（公表日）： 2003年04月02日
要約：

【要約】【課題】 少ない光量で効率よく光触媒活性を有する光触媒性複合材を提供する。【解決手段】 基材と、この基材表面に酸化チタン薄膜を施した光触媒性複合材であって、酸化チタン薄膜の表面を酸化チタンアナターゼ多結晶構造とした。

請求項（抜粋）：

基材表面に金属チタンをターゲットとしデュアルマグネトロンスパッタ(以下DMS)法にて光触媒性酸化チタン膜を成膜する方法であって、前記DMS法の制御にオプチカルエミッションモニタ(以下OEM)制御を用い、そのセットポイントを20とし、かつ、成膜時の基材温度を300°C〜450°Cに加熱して、膜厚25nm〜200nmの光触媒性酸化チタン膜を成膜することを特徴とする光触媒性酸化チタン膜の成膜方法。

IPC (4件)：

B01J 35/02 ,  C01G 23/04 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/34

FI (4件)：

B01J 35/02 J ,  C01G 23/04 C ,  C23C 14/08 E ,  C23C 14/34 N

Fターム (21件)：

4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069EA08 ,  4G069FB02 ,  4G069FB29 ,  4K029AA09 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029CA06 ,  4K029DC39 ,  4K029EA08 ,  4K029FA04 ,  4K029GA01