特許
J-GLOBAL ID:200903046404982120

ガス補助型射出成型の制御を行う方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊藤 捷雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-511331
公開番号(公開出願番号):特表平10-511053
出願日: 1996年09月03日
公開日(公表日): 1998年10月27日
要約:
【要約】本発明の装置及び方法には溶融成型可能材料が流入可能で及び/又は金型空洞を通じて通過出来る入口を備えた金型空洞(200)を定める金型が含まれる。溶融成型可能材料を準備するフィーダーは金型から隔置され、当該材料を金型空洞へ若しくは金型空洞に接続されたアキュムレーターに押し出す。フィーダー内の当該材料の温度を制御する機構、アキュムレーター、金型、金型空洞及び/又は金型空洞内及び/又は金型空洞の周りに位置付けられたガス・チャンネル内への射出前、射出中及び射出後にガス用の制御装置を備えた少なくとも1つのガス射出ユニット(1000,2000)が提供されている。閉ループ調整システムはガスの流れを容易に調節し、調整し、プログラムが組まれた条件付き信号に従って、その射出ガスの平均ガス圧力を監視する。ガス射出ユニットには逃し弁(10,20)とガス・タンクが備えてある。ガス射出ユニットには金型空洞内及び/又はガス・チャンネル内に真空を作り出し及び/又は加圧されたガスの差動若しくは圧力発生流れを誘因することが出来るガス・パージング/排気機器(2020)も含まれている。金型アッセンブリー内とガス射出ユニット内には圧力探り針、温度探り針及び振動探り針(33,51,52,53)が位置付けられ、コンピューター制御される変換器に接続されている。揮発性化学薬品の或る制御された量をガス射出ユニットの不活性ガスと混合出来る。この装置には制御された高周波数若しくは低周波数の低振幅若しくは高振幅の振動をガス流れ内に誘因する1個以上の振動装置(333,444)が含まれている。機構は成型作動の充填段階、突き固め段階及び冷却段階中における振動の励起のタイミングを制御する。
請求項(抜粋):
成型される製品を製造する装置であって: 金型空洞と溶融され且つ溶融可能とされる材料の通過のため金型空洞と連通する金型空洞内に至り成型される製品を形成する少なくとも1つの通路を備えた金型を有する金型アッセンブリー; 金型から隔置され材料を準備し、その材料を金型空洞に供給する通路に接続されたフィーダー; 選択されたパラメーターを有するガスを金型アッセンブリーに供給し、成型される物品の少なくとも1つ並びに金型空洞内の材料に影響するよう金型アッセンブリーに接続された少なくとも1つのガス射出ユニット; 当該少なくとも1つの成型される物品と金型内の材料にガスに影響を与え振動が選択されたパラメーターを有するようにしたガス内に振動を発生させるべく金型アッセンブリーに作動関係的に接続された振動手段;及び 振動手段とガス射出ユニットの選択されたパラメーターを制御する閉ループ調整システムから成る装置。
IPC (3件):
B29C 45/00 ,  B29C 45/26 ,  B29C 45/76
FI (3件):
B29C 45/00 ,  B29C 45/26 ,  B29C 45/76

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