特許
J-GLOBAL ID：200903046406118660
フォトマスク及びその製造方法、並びにベーキング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-209088
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052544
出願日： 1997年08月04日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】 搬送時及びハンドリング時に遮光膜が剥がれることのないフォトマスク及びその製造方法、並びにそのフォトマスクを製造するためのベーキング装置を提供する。【解決手段】 基板10上に遮光膜12が形成されたマスクブランク16上に、レジスト膜14を形成する工程と、マスクブランクの周縁部を除く所定領域を選択的に加熱する工程と、加熱したレジスト膜に所定のパターンを露光する工程と、周縁部のレジスト膜を選択的に溶解すると共に、露光したレジスト膜をパターンに現像する工程と、パターニングされたレジスト膜をマスクとして遮光膜をエッチングし、周縁部の遮光膜を除去すると共に、遮光膜をパターンに加工する工程とを有している。
請求項（抜粋）：
基板上に遮光膜が形成されたマスクブランク上に、レジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、前記マスクブランクの周縁部を除く所定領域を選択的に加熱する加熱工程と、加熱した前記レジスト膜に所定のパターンを露光する露光工程と、前記周縁部の前記レジスト膜を選択的に溶解すると共に、露光した前記レジスト膜を前記パターンに現像する現像工程と、パターニングされた前記レジスト膜をマスクとして前記遮光膜をエッチングし、前記周縁部の前記遮光膜を除去すると共に、前記遮光膜を前記パターンに加工するエッチング工程とを有することを特徴とするフォトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 L
, H01L 21/30 502 P
