特許

J-GLOBAL ID：200903046407811661

水処理方法

発明者： 清谷 悦民 ,  鍵元 岩根 ,  苅谷 信一 ,  松本 聰
出願人/特許権者： 東洋電化工業株式会社 ,  興和開発株式会社
代理人 (1件)： 高月 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-296533
公開番号（公開出願番号）：特開平6-122000
出願日： 1992年10月09日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：

【要約】【目的】水中に溶存している窒素を簡単な設備で、しかも多くのランニングコストを必要とすることなく効率的に除去できる水処理方法の提供。【構成】細菌の資化物を充填してた資化物層13、15を設けると共に、アンモニア態窒素の吸着が可能な吸着材を充填した吸着材層14、16を資化物層に連続状態で設け、資化物層から吸着材層に向けて移動するように処理対象水を供給するようにしている。この方法によると、高度な嫌気条件となる資化物層で繁殖する硝酸還元能を有する細菌による還元及び資化物層における高還元レベルによる純化学的な還元により硝酸態窒素がアンモニア態窒素へ変換し、このアンモニア態窒素が吸着材層で吸着除去される処理と、資化物層で繁殖する脱窒菌によりなされ硝酸態窒素からの脱窒処理とが同時進行的に利用できるので、簡単な設備で効率的な除去を行なえる。

請求項（抜粋）：

細菌の資化物を充填した資化物層を設けると共に、アンモニア態窒素の吸着が可能な吸着材を充填した吸着材層を資化物層に連続状態で設け、そして資化物層から吸着材層に向けて移動させるように処理対象水を供給してなる水処理方法。

IPC (5件)：

C02F 3/34 101 ,  C02F 1/28 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/10 ,  C02F 9/00