特許
J-GLOBAL ID：200903046416307240
電界型真空管とそれを用いた圧力センサ、加速度センサおよびそれらの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-114034
公開番号（公開出願番号）：特開平9-185947
出願日： 1996年05月09日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：
【要約】【課題】高温等の過酷な環境でも使用でき、個体差の変動の無い、外力によって電子電流が変化する電界型真空管とそれを利用した圧力センサ、加速度センサを得る。【解決手段】シリコン基板11上に酸化膜14を介して、シリコン薄膜からなり先端の尖ったエミッタ12と、コレクタ13を備え、その上に酸化膜16を介して第二のシリコン薄膜および酸化膜18からなるキャップ部を被せた電界型真空管とする。シリコン基板11を第一ゲートとし、第二のシリコン薄膜を第二のゲート15として、エミッタ12とシリコン基板との間に電圧を印加して電子を放出させる。キャップ部に外力が加えられると、コレクタ13、第二ゲート15へ流れる電流が変化することから、圧力センサ等として利用できる。全電流或いは第一ゲートへの電流を基準とすれば、個体差を抹消できる。
請求項（抜粋）：
エミッタ、コレクタおよび第一、第二のゲ-トを備え、エミッタ、第一ゲート間に印加した電圧によりエミッタから電子を放出する電界型真空管において、外力が第二ゲ-トに加わることによって、第二ゲートが変形し、エミッタ、第二ゲ-ト、コレクタが作る電位分布が変化して、コレクタ電流の変化を引き起こすことを特徴とする電界型真空管。
IPC (5件)：
H01J 21/06
, G01L 9/00
, G01P 15/08
, H01J 1/30
, H01J 19/70
H01J 21/06
, G01L 9/00 Z
, G01P 15/08
, H01J 1/30 Z
, H01J 19/70
