特許
J-GLOBAL ID：200903046428176249
エッチング処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-202017
公開番号（公開出願番号）：特開平6-021612
出願日： 1992年07月06日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 塩化第二銅よりなるエッチング液の濃度を常に一定範囲内に保つようにエッチング液を管理し、そのエッチング液を連続的にエッチング反応槽11へ供給すること。【構成】 エッチング液中の塩化第一銅濃度及びトータル銅濃度を、第一の検出手段32及び第二の検出手段33で検出し、それら検出値に基づいて制御手段37がポンプ38及び定量ポンプ53に対して起動あるいは停止命令を出力する。ポンプ38が起動されると循環供給路Aを介して酸化再生手段22へエッチング液が供給され、酸化再生処理が行われる。一方定量ポンプ53が起動されると希釈液供給路54を介して循環供給路Aへ希釈液が供給され、濃度の希釈調整処理が行われる。このようにしてエッチング液は常に一定範囲の濃度を保つように管理され、このエッチング液は常時起動しているポンプ42によって循環供給路Bを介して連続的にエッチング反応槽11へ供給される。
請求項（抜粋）：
塩化第二銅溶液からなるエッチング液と銅とをエッチング反応させるエッチング反応槽と、前記エッチング反応槽より流出するエッチング液中の塩化第一銅を空気又は酸素により酸化し塩化第二銅を再生する酸化再生手段と、再生されたエッチング液を前記エッチング反応槽に循環して供給する循環手段と、前記エッチング液中の塩化第一銅濃度を検出する第一の検出手段と、前記エッチング液中の銅の濃度を検出する第二の検出手段と、前記エッチング液を希釈調整するための希釈液を供給する希釈液供給手段と、前記第一の検出手段からの検出値に基づいて前記酸化再生手段による空気又は酸素とエッチング液との接触を制御すると共に、前記第二の検出手段からの検出値に基づいて前記希釈液供給手段による希釈液の供給を制御する制御手段と、を有してなることを特徴とするエッチング処理装置。
IPC (2件)：
H05K 3/06
, C23F 1/08 101
