塗布膜除去装置および塗布膜除去装置を備えた液処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-030487
公開番号（公開出願番号）：特開2002-231617
出願日： 2001年02月07日
公開日（公表日）： 2002年08月16日
要約：

【要約】【課題】基板の帯電によって生ずる基板の破損や火災の発生を防止した塗布膜除去装置と塗布膜除去装置を備えた液処理装置を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態であるレジスト塗布・現像処理システム100は、基板Gを略水平に保持するスピンチャック41を有するレジスト塗布処理ユニット(CT)22と、上部にイオナイザ62とフィルターファンユニット(FFU)61が配設された周縁レジスト除去ユニット(ER)23と、基板Gを搬送する搬送機構50を有する。イオナイザ62によって生成するイオンをフィルターファンユニット(FFU)61からのダウンフローに乗せて基板Gを除電する。

請求項（抜粋）：

塗布膜が形成された基板の周縁部における塗布膜を除去する塗布膜除去装置であって、塗布膜が形成された基板を載置する載置ステージと、前記載置ステージに載置された基板の周縁に沿って移動し、余分な塗布膜を除去する除去液を吐出する除去液吐出ノズルおよび前記除去液吐出ノズルから吐出された除去液および前記除去液によって溶解された塗布液を吸引する除去液吸引ノズルが形成された除去ヘッドと、前記載置ステージの上方に設けられ、前記載置ステージに載置された基板に送風を行う送風機構と、前記送風機構の下方に設けられ、イオンを発生させて前記送風機構から送風される気流にイオンを含ませて基板の除電を行うイオナイザと、を具備することを特徴とする塗布膜除去装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B05C 9/12 , B05C 11/08

FI (4件)：

B05C 9/12 , B05C 11/08 , H01L 21/30 577 , H01L 21/30 565

Fターム (13件)：

4F042AA02 , 4F042AA10 , 4F042CC04 , 4F042CC10 , 4F042CC15 , 4F042DC00 , 4F042DH03 , 4F042EB09 , 4F042EB17 , 4F042EB27 , 4F042EB28 , 5F046JA15 , 5F046JA25

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