特許
J-GLOBAL ID:200903046443711827

透明導電膜およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 土橋 皓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-348162
公開番号(公開出願番号):特開平11-170421
出願日: 1997年12月17日
公開日(公表日): 1999年06月29日
要約:
【要約】【課題】 微細なパターンを形成した金属層を有して高い透明性と導電性とを兼ね備えた透明導電膜を複雑な工程を必要とせず容易で安価に製造ができるようにした透明導電膜およびその製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】 無電解メッキ触媒を含有する感光性材料のフォトマスクを介した露光により所定のパターンに形成された皮膜と、この皮膜上に無電解メッキにより成膜されたパターン状金属層とを有する透明導電膜を、透明基体の表面上に無電解メッキ触媒を含有する感光材料を塗布し、乾燥し、フォトマスクを介して露光を行い、現像してパターン化された皮膜を形成し、ついで、無電解メッキ処理を施すことによって成膜されたパターン状金属層を形成させるように構成する。
請求項(抜粋):
無電解メッキ触媒を含有する感光性材料のフォトマスクを介した露光により所定のパターンに形成された皮膜と、この皮膜上に無電解メッキにより成膜されたパターン状金属層とを有することを特徴とする透明導電膜。
IPC (7件):
B32B 7/02 104 ,  B01J 27/13 ,  B01J 31/22 ,  B32B 15/08 ,  C08F 2/46 ,  H01B 5/14 ,  H05K 9/00
FI (7件):
B32B 7/02 104 ,  B01J 27/13 M ,  B01J 31/22 M ,  B32B 15/08 E ,  C08F 2/46 ,  H01B 5/14 A ,  H05K 9/00 V

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