特許
J-GLOBAL ID：200903046453713623
強度変化の補償を伴う投影系及びそのための補償素子
発明者：
,
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 徹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-513861
公開番号（公開出願番号）：特表2008-502127
出願日： 2005年06月03日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：
【課題】限界寸法の変化を実質的に伴わないか、わずかに伴うだけである結像を可能にする投影系を提供する。干渉層システムで被覆され、且つ結像中にほぼ均一な強度分布を得るための補正素子として投影対物レンズ内に使用することができる光学構成部品を提供する。コントラストの大幅な損失を容認する必要なく、浸漬リソグラフィの利点を利用する投影露光系を提供する。【解決手段】 投影対物レンズの物体面上に配置されたパターンを投影対物レンズの像面上に結像するための投影対物レンズにおいて、基板を有する少なくとも1つ光学構成部品が設けられ、少なくとも1つの基板表面が、その光学構成部品の有効断面全体にわたって反射率及び/又は透過率の空間変調が大きい干渉層システムで覆われ、その変調を、投影対物レンズの残りの構成部品の空間透過率分布に適応させ、それにより、ひとみ面上で測定された放射光の強度分布が、干渉層システムを備えない投影対物レンズに比べて相当に減少した空間変調を有するようにしている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
投影対物レンズの物体面上に配置されたパターンを投影対物レンズの像面上に結像するための投影対物レンズであって、
複数の光学構成部品が、物体面(101)及び像面(102)間に配置されており、
光学構成部品の少なくとも1つが、基板を有し、その少なくとも1つの基板表面が、その光学構成部品の有効断面全体にわたって反射率及び/又は透過率の空間変調が大きい干渉層システム(200)で覆われ、その変調を、投影対物レンズの残りの構成部品の空間透過率分布に適応させ、それにより、ひとみ面(126)上に存在する放射光の強度分布が、干渉層システムを備えない投影対物レンズに比べて相当に減少した空間変調を有するようにした、投影対物レンズ。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 5/20
, G02B 17/08
, G02B 13/00
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, G02B5/20
, G02B17/08 Z
, G02B13/00
2H048AA01
, 2H048AA19
, 2H048AA24
, 2H048AA26
, 2H087KA06
, 2H087KA21
, 2H087LA01
, 2H087NA01
, 2H087RA43
, 2H087RA46
, 2H087TA01
, 2H087TA04
, 5F046BA03
, 5F046BA05
, 5F046CB02
, 5F046CB12
, 5F046CB25
, 5F046DA12
出願人引用 (3件)
-
国際特許出願第PCT/EP2004/001779号
-
米国特許第5,222,112号
-
国際特許出願第WO02/077692A1号
審査官引用 (19件)
全件表示
前のページに戻る
