特許
J-GLOBAL ID：200903046479297709
リトグラフ投影装置およびディバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-131626
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058443
出願日： 1999年05月12日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：
【要約】【課題】 基板上の感光物質から生ずる異物の堆積によるリトグラフ投影装置の性能劣化を防止すること【解決手段】 放射システムLA,ILによって発生された投射ビームPBを、マスクテーブルMT上のマスク(レティクル)MAの目標区域(ダイ)Cに照射し、その像を投影システムPLを介して基板テーブルWT上の基板Wに像映する、リトグラフ投影装置。投射線にはEUV、電子ビームまたはX線が使用される。鏡R1〜R4を有する投影システムPLの出口孔Oには、投射ビームPBの通過を妨げないような形状、寸法の円錐形中空管Tが取付けられ、中空管Tにはガスが噴出され、噴出ガスは基板Wに向かって流れ、異物が基板Wから鏡に向かって流れるのを阻止し、異物が鏡に堆積することによるリトグラフ投影装置の性能劣化を防止する。噴出ガスとしてEUVを吸収しないガス、たとえばArまたはKrが使用される。
請求項（抜粋）：
放射線の投影ビームを供給する放射線システム、マスクを保持するマスクテーブル、基板を保持する基板テーブル、マスクの照射された部分を基板の目標部分に像映する投影システムを有するリトグラフ投影装置において、a)投影システムが、少なくとも部分的に排気可能でかつ使用される放射線を固体面から基板テーブルに向かって指向するようにした前記固体面により投影システムの位置に画定された介在空間によって基板テーブルから分離され、b)介在空間が固体面と基板テーブルとの間に設置されかつ放射線経路の周りに位置した中空管を包み、管の形状および大きさは投影システムによって基板テーブル上に焦点を結ぶ放射線が中空管の壁でさえぎられることのないものであり、c)ガス流を中空管の内側に連続的に噴出させる噴出装置が設けられたことを特徴とする前記リトグラフ投影装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 F
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 517
