特許
J-GLOBAL ID：200903046481211390
表面処理装置および方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-214424
公開番号（公開出願番号）：特開平6-061327
出願日： 1992年08月12日
公開日（公表日）： 1994年03月04日
要約：
【要約】【構成】 一対の主放電電極を結ぶ中心軸線に対して他方のピン電極は気密容器外になる後端を予備放電側になる先端よりも近づける方向にして傾けられ、ピーキングコンデンサは上記他方のピン電極の傾きに応じて上記中心軸線に近付くように設けられた第1の構成のものと、または第2の構成として上記他方のピン電極はクランク状に形成され上記中心軸線に対して気密容器外になる後端を予備放電側になる先端よりも近づけて設けられ、上記ピーキングコンデンサは上記他方のピン電極の傾きまたはクランクの形状に応じて主放電電極の軸線側に近付くように設けられた構成としたもの。【効果】 ピーキングコンデンサを中心軸線側に近づけて配置できるようになったので、ヘッドインダクタンスを大幅に低減でき、その結果レーザ発振効率は1.5倍以上向上した。
請求項（抜粋）：
排気手段および処理ガス供給手段を有した処理室と、内部を上記処理室とほぼ同じ処理ガス雰囲気にする手段を有した第1および第2の予備室と、上記処理室と第1の予備室とを接続した第1のゲートバルブと、この第1のゲートバルブとは別の部位で上記処理室と第2予備室とを接続した第2のゲートバルブと、これら第1および第2のゲートバルブにそれぞれ接続され上記第1の予備室に第3のゲートバルブを介して接続されたローディング室と、上記第2の予備室に第4のゲートバルブを介して接続されたアンローディング室と、上記処理室または上記第1および第2の予備室内に設けられた搬送体とを備えたことを特徴とする表面処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, C23C 14/56
, C23C 16/44
