特許
J-GLOBAL ID:200903046485737150

レーザ装置とその制御方法およびそれを用いたレーザ加工方法とレーザ加工機

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-168538
公開番号(公開出願番号):特開2001-352120
出願日: 2000年06月06日
公開日(公表日): 2001年12月21日
要約:
【要約】【課題】 高調波Qスイッチレーザにおいて、波長変換に用いられる非線形光学結晶を保護し、安定したレーザパルスを得る。【解決手段】 本発明は、レーザ休止時にQスイッチを高速に連続動作させ固体レーザを擬似的にCW発振させることにより、ゲインの蓄積を下げる。レーザパルスを発生させる前には所定の期間Qスイッチを停止することでレーザゲインを上昇させ、Qスイッチ動作時に1ショットだけ所定の大きさのパルスを発生させる。非線形光学結晶における波長変換は、CW動作時はレーザ輝度が低いため波長変換されることなく、高調波のレーザ光は出力されない。一方、パルス光は非線形光学結晶で波長変換され、高調波のレーザ光が出力される。
請求項(抜粋):
出力鏡と、光反射ミラーと、前記出力鏡と光反射ミラーの間に配置したゲイン媒質と、Qスイッチと、非線形光学結晶を有し、励起光を連続的にゲイン媒質に照射して、Qスイッチによりパルスレーザを得て、このパルスレーザを非線形光学結晶に入力することにより高調波レーザ光を得るレーザ装置において、Qスイッチを高調波レーザの休止期間には連続発振モードに設定し、高調波パルス発生前に所定の時間だけ休止期間を設けることを特徴とするレーザ装置。
IPC (6件):
H01S 3/117 ,  B23K 26/00 ,  G02F 1/11 502 ,  G02F 1/37 ,  H01S 3/109 ,  H05K 3/00
FI (6件):
H01S 3/117 ,  B23K 26/00 N ,  G02F 1/11 502 ,  G02F 1/37 ,  H01S 3/109 ,  H05K 3/00 N
Fターム (27件):
2H079AA04 ,  2H079BA01 ,  2H079CA24 ,  2H079EB21 ,  2H079FA02 ,  2H079FA03 ,  2H079KA18 ,  2H079KA20 ,  2K002AA04 ,  2K002AB12 ,  2K002EB13 ,  2K002GA10 ,  2K002HA20 ,  4E068AF00 ,  4E068CA02 ,  4E068CK01 ,  4E068DA11 ,  5F072JJ03 ,  5F072JJ05 ,  5F072JJ09 ,  5F072KK06 ,  5F072KK12 ,  5F072MM09 ,  5F072PP07 ,  5F072QQ02 ,  5F072SS06 ,  5F072YY06
引用特許:
審査官引用 (5件)
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