特許
J-GLOBAL ID：200903046507170094
光ディスク用原盤の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
村山 光威
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-134219
公開番号（公開出願番号）：特開2002-334483
出願日： 2001年05月01日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：
【要約】【課題】 露光スポットのビーム径よりも細い案内溝またはピットを形成することを可能とし、かつトラックピッチが狭くなった時に均一パタン形状を得るようにする。【解決手段】 ガラス基板1上に非感光性の水溶性樹脂からなる下層2を形成し、下層2上に中間層3を形成し、中間層3上に感光性樹脂からなる上層3を形成してガラス原盤5を作成し、上層4に所定のパタンを露光して潜像を形成してから現像を行い、上層4パタンにおいて中間層3が表面に出ている部分をエッチングし、中間層3パタンにおいて下層2が表面に出ている部分を光オゾンアッシング法によって下層2にパタンを転写し、上層4を剥離し、ガラス原盤5の表面に導電性皮膜8を形成し、導電性皮膜8を電極として電鋳を行い、電鋳が行われたガラス原盤5からガラス基板1および下層材料を剥離、除去し、導電性皮膜8の表面の洗浄することで、光ディスク用原盤を製造する。
請求項（抜粋）：
ガラス基板上に非感光性の水溶性樹脂からなる下層を形成する第1の工程と、下層上に、感光性樹脂からなる上層を形成してガラス原盤を作成する第2の工程と、上層に所定のパタンを露光して潜像を形成する第3の工程と、現像を行い上層に露光によるパタンを形成する第4の工程と、ガラス原盤を光オゾンアッシング法によって下層にパタンを転写する第5の工程と、上層を剥離する第6の工程と、上層を剥離させたガラス原盤の表面に導電性皮膜を形成し、導電性皮膜を電極として電鋳を行う第7の工程と、電鋳が行われたガラス原盤からガラス基板および下層材料を剥離、除去し、表面の洗浄を行う第8の工程とを備えた光ディスク用原盤の製造方法において、第1の工程の後に下層の水溶性樹脂、上層の感光性樹脂と混合しない無機材質からなる中間層を形成する工程を含め、第4の工程の後に上層パタンにより中間層が表面に出ている部分をエッチングする工程を含めることを特徴とする光ディスク用原盤の製造方法。
Fターム (8件)：
5D121BA05
, 5D121BB03
, 5D121BB04
, 5D121BB33
, 5D121BB34
, 5D121EE03
, 5D121EE17
, 5D121GG04
