特許

J-GLOBAL ID：200903046527452720

サーマルヘッドの製造方法

発明者： 宮村 健二
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-364762
公開番号（公開出願番号）：特開2003-165239
出願日： 2001年11月29日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】【課題】同じフォトマスクを繰り返し使用してサーマルヘッドのパターン形成を行う場合であっても、発熱抵抗体の電気抵抗値を所望する値に設定することが可能な、生産性に優れたサーマルヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】フォトリソ法にて形成されるヘアピン状の折り返しパターンが主走査方向に複数個、配列され、各折り返しパターンの途中に発熱抵抗体が設けられるサーマルヘッドの製造方法であって、前記折り返しパターンのパターニングに使用されるフォトマスク6は、折り返しパターンに対応する複数個の遮光性パターン8を有し、かつ、該遮光性パターン8の外周で、発熱抵抗体の形成領域外に、隣接する遮光性パターン8に向かって突出する多角形状の凸部9を設ける。

請求項（抜粋）：

フォトリソ法にて形成されるヘアピン状の折り返しパターンが主走査方向に複数個、配列され、各折り返しパターンの途中に発熱抵抗体が設けられるサーマルヘッドの製造方法であって、前記折り返しパターンのパターニングに使用されるフォトマスクは、折り返しパターンに対応する複数個の遮光性パターンを有し、かつ、該遮光性パターンの外周で、発熱抵抗体の形成領域外に、隣接する遮光性パターンに向かって突出する多角形状の凸部を有していることを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。

IPC (2件)：

B41J 2/335 ,  B41J 2/345

FI (2件)：

B41J 3/20 111 H ,  B41J 3/20 113 B

Fターム (8件)：

2C065JH06 ,  2C065JH07 ,  2C065JH09 ,  2C065JH10 ,  2C065KB01 ,  2C065KB04 ,  2C065KB05 ,  2C065KB16

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ガラスマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-275636   出願人：沖電気工業株式会社
• ホトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-154071   出願人：セイコーエプソン株式会社