特許
J-GLOBAL ID:200903046538705425
規則的パターンの欠陥検査装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-149124
公開番号(公開出願番号):特開平9-005058
出願日: 1995年06月15日
公開日(公表日): 1997年01月10日
要約:
【要約】【目的】 規則的パターンの欠陥を詳細かつ精度良く検出することのできる装置を提供する。【構成】 本発明の欠陥検査装置は、被検査物(10)上において所定方向に沿って所定の繰り返し周期で配列されている複数の規則的パターンの欠陥を検査するものである。この装置は、規則的パターンを撮像し、この規則的パターンの画像情報を取得する撮像部(18及び20)と、この画像情報に基いて、画像上において規則的パターンの繰り返し周期の整数倍の周期で規則的パターンの配列方向に沿って配列された3個の領域の画像濃度S1、S2及びS3を取得し、これらの画像濃度S1、S2及びS3を比較することで規則的パターンの欠陥を検出する欠陥検出部(28)とを備えている。
請求項(抜粋):
被検査物上において所定方向に沿って所定の繰り返し周期で配列されている複数の規則的パターンの欠陥を検査する装置であって、前記規則的パターンを撮像し、この規則的パターンの画像情報を取得する撮像部と、前記画像情報に基いて、画像上において前記規則的パターンの繰り返し周期の整数倍の周期で前記規則的パターンの配列方向に沿って配列された3個の領域の画像濃度S1、S2及びS3を取得し、これらの画像濃度S1、S2及びS3を比較することで前記規則的パターンの欠陥を検出する欠陥検出部と、を備える規則的パターンの欠陥検査装置。
IPC (2件):
FI (3件):
G01B 11/30 Z
, G06F 15/62 400
, G06F 15/62 410 Z
引用特許:
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