特許
J-GLOBAL ID：200903046540170725
有機電子写真感光体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川口 義雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-281239
公開番号（公開出願番号）：特開平6-130683
出願日： 1992年10月20日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】【目的】 下引層/電荷発生層/電荷輸送層の3層構成の電子写真感光体の製造において、電荷発生層の膜厚を的確に管理して塗布量を調整することによる、一定の特性を有する電子写真感光体を製造する。【構成】 導電性基体表面に下引層、電荷発生層、電荷輸送層を、これら各層の膜厚を逐次測定しつつ、順次塗布形成して有機電子写真感光体を製造するに際し、下引層又は電荷輸送層の膜厚を光干渉法で測定することにより求め、また、電荷発生層の膜厚を、感光体ドラムの画像形成域外の部分で基体表面に設けた下引層を形成しない部分にて電荷発生層の分光吸収スペクトルを測定することにより求め、それらの測定結果を演算処理装置にフィードバックし、及び演算処理装置により昇降速度を制御して塗布量を調整する。
請求項（抜粋）：
導電性基体表面に下引層、電荷発生層、電荷輸送層を、これら各層の膜厚を逐次測定しつつ、順次塗布形成する有機電子写真感光体の製造方法において、下引層又は電荷輸送層の膜厚を光干渉法で測定することにより求め、また、電荷発生層の膜厚を、感光体ドラムの画像形成域外の部分で基板表面に設けた下引層を形成しない部分にて電荷発生層の分光吸収スペクトルを測定することにより求め、これら膜厚の測定結果を演算処理装置にフィードバックする工程、及び演算処理装置により昇降速度を制御して塗布量を調整する工程を有することを特徴とする有機電子写真感光体の製造方法。
IPC (2件)：
G03G 5/05 102
, G01B 11/06
