特許
J-GLOBAL ID：200903046543006047
写真用処理組成物及び処理方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-146833
公開番号（公開出願番号）：特開平5-173312
出願日： 1992年05月14日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：
【要約】【目的】 沈殿やスラッジが発生せず、写真的悪作用を及ぼさず、環境問題のない処理組成物を提供する。【構成】 下記式で表される化合物又はその金属キレート化合物の少なくとも一種を含むことを特徴とする写真用処理組成物。(Lはアリーレン基又はヘテロ環基を、L1 、L2 、L3 、L4 及びL5 は二価の脂肪族基、二価の芳香族基又はそれらの組合せからなる二価の連結基を、A1 、A2 及びA3 はカルボキシ基、スルホ基又はヒドロキシ基を、Zは酸素原子又は硫黄原子を、k、t、m及びnはそれぞれ0又は1を表す。)【化1】
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表されるモノアミン化合物又はその塩の少なくとも一種を含むことを特徴とする写真用処理組成物。一般式(I)【化1】(式中、Lはアリーレン基又は二価のヘテロ環基を表わす。L1 、L2 、L3 、L4 及びL5 はそれぞれ二価の脂肪族基、二価の芳香族基又はそれらの組合せからなる二価の連結基を表わす。A1 、A2 及びA3 はそれぞれ、カルボキシ基、スルホ基又はヒドロキシ基を表わす。Zは酸素原子又は硫黄原子を表わす。k、t、m及びnはそれぞれ0又は1を表す。但し、Lが-N(L1 -A1 )(L2 -A2 )基を含む残基と-A3 基を含む残基とをO位で結合するアリーレン基であり、かつk及びnが1である時に、Zが酸素原子であることはなく、また、Lが-N(L1 -A1 )(L2 -A2 )を含む残基とA3 を含む残基とをO位で結合するアリーレン基又は二価のヘテロ環基であり、かつkが0である時に、A3 がヒドロキシ基であることはない。)
IPC (2件)：
G03C 7/42
, C09K 3/00 108
