特許
J-GLOBAL ID：200903046553888820
ペリクル
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-045988
公開番号（公開出願番号）：特開平5-216213
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 本発明はLSI、超LSIなどの半導体装置、液晶表示板製造時のゴミよけ用に 500nm以下の露光方式で使用される、接着強度が大きく、光劣化しないリソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、ペリクル膜がジオルガノポリシロキサン組成物でペリクル枠に接着された重合体よりなるものであることを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
ペリクル膜がジオルガノポリシロキサン組成物でペリクル枠に接着された重合体よりなるものであることを特徴とするペリクル。
IPC (4件)：
G03F 1/14
, C08K 5/54
, C08L 83/04 LRU
, H01L 21/027
