特許

J-GLOBAL ID：200903046557011221

シリコンの再生処理方法、シリコン固形物の清浄化処理方法、それらの方法に用いるワークの清浄化処理装置、シリコン板、およびシリコン固形物

発明者： 山春 栄吉
出願人/特許権者： ヤマキ工業株式会社 ,  巴工業株式会社
代理人 (1件)： 吉田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-019331
公開番号（公開出願番号）：特開平10-217121
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1998年08月18日
要約：

【要約】【課題】シリコンインゴットをスライスするときに発生するスクラップ材としてのシリコン板を、接着剤などの不純物が付着していない清浄なシリコン板として再生処理し、高品質のシリコンが要求される半導体製造分野などにおいて有効に利用できるようにする。【解決手段】接着剤を用いて接続された複数のシリコンインゴットを切断することにより発生する切断残余のインゴット接続部95を分離して得られるシリコン板90の外表面に、研掃材を混入した高速空気流を吹きつけるブラスト処理を施し、上記シリコン板90の外表面を清浄化する。

請求項（抜粋）：

接着剤を用いて接続された複数のシリコンインゴットを切断することにより発生する切断残余のインゴット接続部を分離して得られるシリコン板の外表面に、研掃材を混入した高速空気流を吹きつけるブラスト処理を施し、上記シリコン板の外表面を清浄化することを特徴とする、シリコンの再生処理方法。