X線測定方法及びX線測定装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松隈秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-115360
公開番号（公開出願番号）：特開平11-304729
出願日： 1998年04月24日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】被測定試料の表面に垂直な結晶面について、その結晶配向性やモザイク性、及び面間隔の状態を総合的に把握することができるX線測定方法及びX線測定装置を提供する。【解決手段】 X線源2と、少なくとも被測定試料10の3方向x,y,zの移動機構と1方向ωの回転機構とを有して成るゴニオメータ装置3と、試料10によって反射されたX線Xdを検出するX線検出器4と、X線源2とX線検出器3との被測定試料10の測定点Mに対する方向θ,2θを変更するX線回転機構とを備えたX線測定装置1を用いて、試料表面10sが1方向ωの回転機構と垂直になるように固定し、試料表面10sで全反射する条件にX線の入射角αを設定する。

請求項（抜粋）：

X線を発生させ単色化させるX線源と、少なくとも被測定試料の3方向の移動機構と1方向の回転機構とを有して成るゴニオメータ装置と、上記被測定試料によって反射された上記X線を検出するX線検出器と、上記X線源と上記X線検出器とをそれぞれ同期させて回転させることにより上記被測定試料の測定点に対する方向を変更するX線回転機構とを備えたX線測定装置を用いて、上記被測定試料の表面が上記1方向の回転機構の回転軸と垂直になるように上記被測定試料を固定し、上記X線源からのX線が上記被測定試料の表面で全反射する条件に該表面への該X線の入射角を設定し、上記被測定試料の上記表面に垂直な一結晶面におけるブラッグ反射条件を満たす被測定試料の上記回転機構の回転角及び上記X線回転機構の回転角とを中心として、上記回転機構の回転角の所定範囲及び上記X線回転機構の回転角の所定範囲において、上記被測定試料の上記回転機構と、上記X線回転機構とのうちいずれか一方の回転機構の回転角を一定値にした状態で他方の回転機構を回転走査させて上記X線検出器による連続的又は断続的なX線測定を行い、上記一定値を変更して、さらに上記他方の回転機構を回転走査させて上記X線検出器による連続的又は断続的なX線測定を行い、以降上記一定値の変更と上記連続的又は断続的なX線測定を繰り返し、最終的に上記回転機構の上記回転角の上記所定範囲及び上記X線回転機構の上記回転角の上記所定範囲内である2次元領域内のX線強度分布の測定を行うことを特徴とするX線測定方法。

IPC (2件)：

G01N 23/201 , G01N 23/207

FI (2件)：

G01N 23/201 , G01N 23/207

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