特許

J-GLOBAL ID：200903046565797838

シクロデキストリンポリマー及びその製造方法

発明者： 蒲地 幹治 ,  原田 明
出願人/特許権者： 日本食品化工株式会社
代理人 (1件)： 塩澤 寿夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-213307
公開番号（公開出願番号）：特開平7-048451
出願日： 1993年08月05日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：

【要約】【目的】 複数のシクロデキストリンを規則的に配列して、シクロデキストリン単独の場合より奥行きの長い空洞を有する化合物及びその製造方法の提供。【構成】 2〜1000のシクロデキストリン単位を架橋したシクロデキストリンポリマーであって、架橋基は隣合う2つのシクロデキストリン単位の水酸基の原子を含む-O-R-O-で示され、隣合うシクロデキストリン単位間は2つ以上の架橋基で架橋されていることを特徴とするシクロデキストリンポリマー。架橋基-O-R-O-としては、例えば-O-CH2 CH(OH)CH2 -O-等を例示でき、シクロデキストリン(CD)としては、α-CD、β-CD、γ-CDを例示できる。2〜1000のシクロデキストリンを含むポリロタキサンを形成し、隣合う2つのシクロデキストリンの水酸基を架橋剤と反応させて架橋し、ついでポリロタキサンの芯物質を除去するシクロデキストリンポリマーの製造方法。

請求項（抜粋）：

2〜1000のシクロデキストリン単位を架橋したシクロデキストリンポリマーであって、架橋基は隣合う2つのシクロデキストリン単位の水酸基の酸素原子を含む-O-R-O-で示され、隣合うシクロデキストリン単位間は2つ以上の架橋基で架橋されていることを特徴とするシクロデキストリンポリマー。

IPC (2件)：

C08G 65/34 NQS ,  C08B 37/16