特許

J-GLOBAL ID：200903046568304484

気相で酢酸ビニルを合成するための反応器及び方法

発明者： カルステン ビューカー ,  シュテフェン シアマイスター ,  ベルント ランガンケ ,  ゲオルク マルコヴツ ,  ラルフ ハウスマン ,  アンドレアス ガイセルマン
出願人/特許権者： ウーデ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ,  エボニック デグサ ゲーエムベーハー
代理人 (6件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-536062
公開番号（公開出願番号）：特表2008-516906
出願日： 2005年10月10日
公開日（公表日）： 2008年05月22日
要約：

本発明は、ガス状のエチレンと酢酸並びに酸素又は酸素含有ガスとを接触反応させる酢酸ビニルを製造するための合成反応器及び方法に関し、その際、前記合成反応器は壁型反応器であり、前記反応器において接触合成が多数の反応室中で行われ、前記反応室は開放された流動断面に関して少なくとも1つの寸法が2000μmより小さく、有利に1000μmより小さく、かつその間接的に冷却される壁はパラジウム金触媒で被覆されている。この明細書で図面は開示されていない。

請求項（抜粋）：

ガス状のエチレン及び酢酸並びに酸素又は酸素含有ガスを接触反応させることにより酢酸ビニルを製造するための合成反応器において、 - 前記合成反応器が壁型反応器であり、かつ - 接触合成を多数の反応室中で行い、その際、 - 前記のそれぞれの反応室中の開放された流動断面は、少なくとも1つの寸法が2000μmより小さく、かつ - 前記反応室の少なくとも1つの壁が触媒で被覆されていて、かつ - 前記反応室の少なくとも1つの壁は間接的に冷却される ことを特徴とする、酢酸ビニルを製造するための合成反応器。

IPC (4件)：

C07C 67/055 ,  B01J 23/58 ,  B01J 23/52 ,  C07C 69/15

FI (4件)：

C07C67/055 ,  B01J23/58 Z ,  B01J23/52 Z ,  C07C69/15

Fターム (70件)：

4G169AA03 ,  4G169BA01A ,  4G169BA02A ,  4G169BA02C ,  4G169BA04A ,  4G169BA05A ,  4G169BA10A ,  4G169BA14A ,  4G169BA14C ,  4G169BA15A ,  4G169BA15C ,  4G169BA16A ,  4G169BA18 ,  4G169BA37 ,  4G169BB04A ,  4G169BB04C ,  4G169BB06A ,  4G169BC01A ,  4G169BC01C ,  4G169BC03A ,  4G169BC03B ,  4G169BC08A ,  4G169BC31A ,  4G169BC33A ,  4G169BC33B ,  4G169BC41A ,  4G169BC43A ,  4G169BC54A ,  4G169BC62A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169BE06A ,  4G169BE06C ,  4G169CB07 ,  4G169CB30 ,  4G169EA08 ,  4G169EB15Y ,  4G169FA03 ,  4G169FB23 ,  4G169FC05 ,  4G169FC08 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC48 ,  4H006BA02 ,  4H006BA05 ,  4H006BA06 ,  4H006BA08 ,  4H006BA12 ,  4H006BA16 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA25 ,  4H006BA26 ,  4H006BA55 ,  4H006BA82 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC30 ,  4H006BD81 ,  4H006BD83 ,  4H006BE30 ,  4H006KA13 ,  4H039CA66 ,  4H039CD10